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2020Micro-LED產(chǎn)業(yè)技術(shù)峰會精彩回顧 | 華南理工大學(xué)彭俊彪:高性能稀土氧化物TFT技術(shù)在LED顯示中

編輯:chinafpd 2020-09-02 10:01:58 瀏覽:827  來源:中華顯示網(wǎng)

作為下一代新型顯示技術(shù)的新趨勢,Micro-LED漸漸在新型顯示賽道占據(jù)“高位”,成為行業(yè)競爭布局的重點(diǎn)。然而,除了巨量轉(zhuǎn)移等技術(shù)難點(diǎn)之外,Micro-LED對TFT技術(shù)要求也非常高。在2020Micro-LED產(chǎn)業(yè)技術(shù)峰會上,華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院院長彭俊彪教授以“高性能稀土氧化物TFT技術(shù)在LED顯示中的應(yīng)用”為主題,分享了其在氧化物TFT技術(shù)的研究進(jìn)展。

華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院院長

彭俊彪教授

TFT的核心材料是有源半導(dǎo)體,關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)是電子遷移率,是非常重要的顯示器件。彭俊彪教授介紹,金屬氧化物TFT具有諸多優(yōu)勢,主要體現(xiàn)在低成本、大面積、全低溫工藝、遷移率高、節(jié)能等特點(diǎn),“氧化物TFT技術(shù)集“低成本”與“高性能”于一身,具有廣闊發(fā)展?jié)摿Α?rdquo;他也指出,TFT制造工藝難度非常大,比如薄膜厚度、圖形化精度的控制非常考驗(yàn)材料與設(shè)備以及工藝的管理。

彭俊彪教授也介紹,盡管LTPS電子遷移率要比氧化物TFT高,但均勻性不好,需要6-7個LTPS控制一個OLED或者M(jìn)icro-LED的像素,無疑對良率會產(chǎn)生很大影響。同時(shí),他也表示,行業(yè)內(nèi)也在研發(fā)LTPO技術(shù),結(jié)合了氧化物TFT和LTPS兩者的優(yōu)點(diǎn),但工藝難度比較大,相對成本也比較高,在未來柔性折疊屏節(jié)能上也不具備優(yōu)勢。

然而,目前商用化的氧化物半導(dǎo)體IGZO在Micro-LED應(yīng)用也存在一些問題,主要是電子遷移率較低、穩(wěn)定性差(光照、加熱)、知識產(chǎn)權(quán)在國外等問題。因此,氧化物TFT仍需從工藝、穩(wěn)定性等各方面補(bǔ)齊短板,而且要維持一些好的性能指標(biāo)。彭俊彪教授介紹,目前IGZO主要通過摻雜銦、鎵的方式獲得性能的平衡,但摻Ga也存在一些問題:IGZO必須摻入大量Ga,抑制氧空位并提高穩(wěn)定性;Ga離子的軌道半徑比In離子的小很多,摻入Ga會減少電子軌道的交疊,降低電子遷移率。

“新材料”結(jié)合“新結(jié)構(gòu)”實(shí)現(xiàn)低成本、高性能的新型Oxide TFT背板技術(shù)創(chuàng)新,成為氧化物TFT可行之路。彭俊彪教授介紹,“稀土元素最重要的是有豐富的電子能級結(jié)構(gòu)。如果利用好的電子遷移結(jié)構(gòu)和好的材料,可能會有很大的改善。”

他指出,從材料設(shè)計(jì)角度,可以解決IGZO遷移率低、穩(wěn)定性差的根本性問題,主要通過微量摻雜稀土元素IZO,來大范圍調(diào)控Ln-IZO半導(dǎo)體材料及TFT的特性。在高遷移率上,Ln-IZO中,由于稀土摻雜量少(<1%),且離子半徑與In相近,幾乎不影響電子軌道交疊;在高穩(wěn)定性上,稀土元素的高斷鍵、低點(diǎn)電負(fù)性決定了oxide半導(dǎo)體中氧空位的數(shù)量,減少了深能級缺陷,且通過引入快速非輻射躍遷通道提高了光穩(wěn)定性。

彭俊彪教授也介紹,BCE與Top-Gate結(jié)構(gòu)將會是未來TFT應(yīng)用的主流結(jié)構(gòu),而G3-BCE結(jié)構(gòu)具有抗刻蝕氧化物半導(dǎo)體溝道層,工藝結(jié)構(gòu)簡單,遷移率高,穩(wěn)定性優(yōu)異,兼容Al、Cu等低阻電極工藝,與a-Si產(chǎn)線高度兼容等特點(diǎn),在強(qiáng)度超過100w nits的白光LED光源直接照射溝道,仍能保持良好光穩(wěn)定性。他表示,稀土元素Ln摻雜,可以大幅提高Top-gate TFT光照響應(yīng)性,及光熱電壓應(yīng)力穩(wěn)定性,“LnIZO BCE器件遷移率高,器件穩(wěn)定性好,適合小尺寸高PPI的LED顯示屏制作”。

他總結(jié)到,基于oxide TFT器件,結(jié)合全新的像素電路設(shè)計(jì),有希望解決LED顯示應(yīng)用中的大電流驅(qū)動、色差、灰階等技術(shù)限制;而目前高遷移率,高穩(wěn)定性的Ln-IZO TFT技術(shù)基本成熟,且器件遷移率還可以持續(xù)提高,具備與Micro-LED技術(shù)結(jié)合的潛力。

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