2021年，晶洲裝備迎來(lái)新的家園，站在新的高度，踏上了新的征程。新廠(chǎng)竣工伊始，晶洲接獲某大客戶(hù)大尺寸顯示基地示范工廠(chǎng)G8.5刻蝕設(shè)備訂單，歷時(shí)130余天，G8.5刻蝕設(shè)備較之標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)周期提前50天超前完成生產(chǎn)，順利下線(xiàn)。
濕法刻蝕設(shè)備主要應(yīng)用于平板顯示制程的陣列(Array)段，其原理是利用化學(xué)的方法對(duì)經(jīng)過(guò)曝光與顯影后的基板表面金屬膜層進(jìn)行均勻刻蝕，進(jìn)而形成光刻定義的電路圖，是圖形化工藝的關(guān)鍵制程，一向由進(jìn)口設(shè)備商壟斷，國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商少有涉及。
2020年，晶洲裝備G8.5大世代設(shè)備技術(shù)突破顯影、刻蝕、剝膜等一系列主工藝設(shè)備形成批量訂單，并陸續(xù)交付，全面覆蓋了ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu等各種膜材的刻蝕工藝。
來(lái)源： 晶洲裝備
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