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重大突破!南方科技大學(xué)孫小衛(wèi)教授團(tuán)隊(duì)通過(guò)噴墨打印制備出業(yè)界壽命最長(zhǎng)的量子點(diǎn)發(fā)光二極管

編輯:chinafpd 2021-09-28 17:12:45 瀏覽:4691  來(lái)源:中華顯示網(wǎng)

  近日,南方科技大學(xué)孫小衛(wèi)講席教授團(tuán)隊(duì)基于噴墨打印納米材料技術(shù),通過(guò)調(diào)控墨水組元,開發(fā)相對(duì)應(yīng)的新型梯度真空退火方式,用來(lái)特殊制備高性能打印量子點(diǎn)發(fā)光二極管,其中紅色量子點(diǎn)發(fā)光二極管使用壽命(T50@1000nit)可超過(guò)25000 h,綠色超過(guò)20000 h。并以“High Performance Inkjet-printed Quantum-dot Light-emitting Diodes with High Operational Stability”為題,在國(guó)際著名期刊《先進(jìn)光學(xué)材料》(Advanced Optical Materials)在線發(fā)表研究論文。

  研究背景

  量子點(diǎn)發(fā)光二極管(QLED)由于其優(yōu)異的顏色純度、寬的色域和低制造成本,被認(rèn)為是下一代顯示應(yīng)用的主流候選器件。近二十年來(lái),隨著量子點(diǎn)(QD)合成的不斷細(xì)化和器件制備的發(fā)展,QLED的性能有了很大的進(jìn)步。然而,大多數(shù)高性能QLED是通過(guò)旋涂(SC)技術(shù)制備的,該技術(shù)目前僅適用在實(shí)驗(yàn)室中制備小面積器件(<1cm2),此外,旋涂工藝會(huì)有超過(guò)95%的材料被浪費(fèi)。噴墨打?。↖JP)技術(shù),作為一種無(wú)接觸,集約型的沉積技術(shù)被引入光電子制造領(lǐng)域以來(lái),用于柔性和透明顯示的印刷發(fā)光二極管的報(bào)道越來(lái)越多,受到了學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的高度關(guān)注。

  但I(xiàn)JP-QLED與SC- QLED相比,其效率和穩(wěn)定性較差,阻礙了其在實(shí)際顯示面板中的進(jìn)一步發(fā)展。因此,人們?cè)谔岣哂∷⑵骷史矫孢M(jìn)行了許多嘗試,例如通過(guò)改變量子點(diǎn)的配體來(lái)提高其性能,開發(fā)合適的溶劑體系,和新的后處理方式。與SC過(guò)程中QD溶液在離心力的作用下擴(kuò)散不同,墨水在IJP工藝下,會(huì)以液滴形式自由鋪展在基材上。而在墨滴干燥過(guò)程中,由于毛細(xì)作用溶質(zhì)會(huì)聚集在墨滴的邊緣,這導(dǎo)致了表面的嚴(yán)重粗糙(咖啡環(huán)效應(yīng)),影響QLED的壽命及效率。因此,IJP器件和SC器件之間仍然存在效率差距,這主要是由于印刷層表面的不理想造成的。

  圖1. 噴墨打印工藝及量子點(diǎn)成膜示意圖

  此外,溶劑的選擇有限也是阻礙IJP-OLED/QLED發(fā)展的主要障礙之一。例如,聚[(9,9-二辛基芴基-2,7-二基)-alt-(4,4 ' -(N-(4-丁基苯基)(TFB)]層作為一種常見的HTL層,會(huì)被傳統(tǒng)墨水嚴(yán)重腐蝕。最近的研究提出了一些克服這一問(wèn)題的策略,包括設(shè)計(jì)可連接的HTL材料或使用耐腐蝕的HTL材料,如聚(n -乙烯基咔唑)(PVK).然而,與這些HTL材料相比,TFB由于其固有的電穩(wěn)定性,更適合于使用壽命較長(zhǎng)的QLED中的HTL層。因此,雖然通過(guò)這些策略提高了IJP-QLED的效率,但設(shè)備的使用壽命卻受到了影響,無(wú)法滿足行業(yè)的要求。因此,設(shè)計(jì)一種與多種HTL材料兼容的新型油墨系統(tǒng),對(duì)于高效、穩(wěn)定的IJP-QLED至關(guān)重要。

  研究?jī)?nèi)容及成果

  基于此,研究團(tuán)隊(duì)指出適用于制備IJP-QLED的QD墨水應(yīng)滿足以下條件:1)QD具有良好的溶解性;2)良好的印刷性和成膜性;3) 對(duì)下層材料無(wú)損害?;谝陨先齻€(gè)要求,研究團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)了一種新型三元QD油墨(TQ-ink)系統(tǒng),該系統(tǒng)既能抑制咖啡環(huán)效應(yīng),又不會(huì)損傷TFB層。相應(yīng)地,開創(chuàng)性的使用三級(jí)梯度真空后處理(GVP)的方法搭配新的墨水體系,可以進(jìn)一步提高印刷層的質(zhì)量。

  TQ-ink的設(shè)計(jì)思路具有普適性,其中包括溶解元,增稠元和調(diào)節(jié)元。針對(duì)QD(CdSe)的主要溶劑通常具有低沸點(diǎn)和低粘度的溶解元,如辛烷(粘度0.51 cP),以及高沸點(diǎn)的調(diào)整墨水粘度的增稠元,1-cyclohexyl-ethanol(粘度2.5 cP)。然而,如果只是雙元體系,則蒸發(fā)過(guò)程會(huì)完全離散,即,雖然兩種溶劑同時(shí)開始蒸發(fā),但辛烷值的蒸發(fā)會(huì)迅速完成,之后成為單一溶劑(1-環(huán)己基-乙醇)蒸發(fā)過(guò)程,仍會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重咖啡環(huán)效應(yīng),影響薄膜質(zhì)量。因此,添加另一種中間沸點(diǎn)的調(diào)節(jié)元(醋酸正丁酯)使兩種組分調(diào)和。針對(duì)不同的分散顆粒,三元種類和比例可以針對(duì)性的調(diào)整,但是體系思路是一樣的。

  針對(duì)這種新型的TQ-ink體系,研究團(tuán)體受到傳統(tǒng)鋼鐵熱處理工藝的啟發(fā),提出了梯度真空退火(GVP)方式,與之配合。對(duì)于GVP系統(tǒng),開發(fā)了一個(gè)計(jì)算機(jī)控制程序來(lái)控制連接到真空室的泵(分子泵和機(jī)械泵)。通過(guò)程序,采用慢速分步壓力控制,使三個(gè)油墨組分在腔內(nèi)先后蒸發(fā),最終在基片上形成無(wú)針孔、無(wú)凹凸表面的均勻QD層。(中國(guó)專利:一種量子點(diǎn)墨水、QLED器件及其制備方法和應(yīng)用(2021105132030.8))

  圖2.(a)TQ-ink墨水對(duì)下層友好,(b)不同真空方式對(duì)打印形貌的影響,(c)TQ-ink搭配GVP方式成膜機(jī)理圖

  圖3.IJP-QLED壽命

  基于TQ-ink體系和GVP技術(shù),我們?cè)赥FB上印刷了一層均勻的QD,其粗糙度小于1nm。墨水體系與TFB層正交;TFB沒有損傷。因此,漏電流大大降低,電荷注入顯著增強(qiáng),從而使印刷器件具有優(yōu)異的性能。紅色I(xiàn)JP-QLED的最大亮度為104,679 cd/m2,最大EQE為19.3%,在1000 cd/m2時(shí)半亮壽命(T50)高達(dá)25,178 h。同時(shí),采用相同TQ-ink系統(tǒng)和GVP方法的綠色和藍(lán)色I(xiàn)JP-QLED也表現(xiàn)出了出色的EQE(18.0%和4.4%)和運(yùn)行穩(wěn)定性(1000 cd/m2時(shí)壽命為20,655 h, 100 cd/m2時(shí)壽命為46h)。紅綠藍(lán) IJP-QLED的壽命和效率是迄今為止報(bào)道的印刷設(shè)備中最高記錄。

  相關(guān)研究工作得到了科技部國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目(2016YFB0401702)國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(No. 61674074, No. 61875082, No. 61405089, No. 62005115);廣東省重點(diǎn)區(qū)域研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目(No. 2019B010925001, No. 2019B010924001); 廣東大學(xué)先進(jìn)量子點(diǎn)顯示與照明重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室(No. 2017ksys007),廣東省自然科學(xué)基金杰出青年基金資助項(xiàng)目(No. 2017B030306010)的大力支持。

  圖4. IJP圖案化QLED器件

  未來(lái)發(fā)展

  研究者相信在墨水的調(diào)控和成膜后處理方面的進(jìn)行協(xié)同改進(jìn),可以將器件的效率和穩(wěn)定性提高到一個(gè)更高的水平,為噴墨打印器件的發(fā)展提供了新的思路,也證實(shí)了印刷QLED在工業(yè)化制備道路上的應(yīng)用前景,有助于噴墨打印技術(shù)在平板顯示產(chǎn)業(yè)中的發(fā)展。

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