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　　3月23日報(bào)道，三星顯示器目前正在為其客戶 Apple 開發(fā)一種新的面板下攝像頭技術(shù)，以將 Face ID 隱藏在下一代 iPhone 的顯示屏下。

　　消息人士稱，三星顯示該項(xiàng)技術(shù)預(yù)計(jì)將首先應(yīng)用于三星電子明年推出的可折疊手機(jī)上，然后應(yīng)用于 iPhone 15 系列的 Pro 系列。

　　他們表示，蘋果計(jì)劃在 iPhone 15 Pro 機(jī)型上應(yīng)用挖孔屏及屏下Face ID技術(shù)。

　　挖孔屏指的是在前置攝像頭所在的面板上挖一個(gè)孔，目前該技術(shù)已被三星廣泛用于其 Galaxy 系列，而蘋果預(yù)計(jì)會(huì)將其應(yīng)用于今年晚些時(shí)候推出的 iPhone 14 系列。

　　Apple 目前在現(xiàn)有的 iPhone 上采用的是機(jī)頂部凹槽設(shè)計(jì)，也就是所謂的劉海屏。

　　屏下Face ID 技術(shù)是指在不使用時(shí)將傳感器隱藏，這在本質(zhì)上與三星顯示器在去年推出的 Galaxy Z Fold 3 面板上應(yīng)用的面板下攝像頭或 UPC 技術(shù)完全相同。

　　三星顯示（Samsung Display）和 OTI Lumionics 正在開發(fā)新一代屏下攝像頭，該技術(shù)還包括新一代的有機(jī)陰極圖案材料（CPM）。

　　在OLED面板中，底部發(fā)射層發(fā)出的光通過頂部的陰極來顯示的結(jié)構(gòu)稱為頂部發(fā)射。

　　所以陰極必須是透明的，屏下攝像頭技術(shù)才能實(shí)現(xiàn)。陰極被圖案化，因此它可以是透明的，同時(shí)能夠吸收來自外部的光。

　　OTI Lumionics 擁有自己的技術(shù)，可以使用FMM來沉積陰極圖案材料。然后使用Open mask來沉積陰極，避免沉積在圖案化材料上。

　　Mg-Ag 陰極材料沉積在沒有陰極圖案化材料的空白空間上。

　　與此同時(shí)，三星電子計(jì)劃在 Galaxy Z Fold 3 上使用激光鉆孔來制作屏幕下方的攝像頭，就像在 Fold 3 那樣。

　　Apple 已決定不使用激光鉆孔，并正在尋找替代方案。

　　LG Display 也在開發(fā)自己的屏下攝像頭技術(shù)，目標(biāo)是在 2024 年之后將孔的透光率提高到 40% 以上。