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TAOS 2010即將于日本東京工業(yè)大學(xué)召開(kāi)

編輯:hattie 2010-01-06 10:59:25 瀏覽:1148  來(lái)源:日經(jīng)BP社

  透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體及其顯示器應(yīng)用國(guó)際會(huì)議“International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors(TAOS 2010)”將于1月25日~26日在日本東京工業(yè)大學(xué)的SUZUKAKEDAI校區(qū)舉行。夏普、佳能、日立制作所、NEC、大日本印刷、凸版印刷、美國(guó)惠普(HP)、韓國(guó)三星電子(Samsung Electronics)、韓國(guó)LG顯示器(LG Display)以及臺(tái)灣友達(dá)光電(AUO)等代表日本、美國(guó)、韓國(guó)和臺(tái)灣的企業(yè)一線研究人員將發(fā)表特邀演講。

  透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體作為驅(qū)動(dòng)“新一代FPD”的TFT材料備受期待。這是因?yàn)橥该鞣墙Y(jié)晶氧化物半導(dǎo)體蘊(yùn)含著使基于Si TFT的現(xiàn)行面板實(shí)現(xiàn)高精細(xì)和高速化,并且能夠開(kāi)拓類似柔性顯示器等新應(yīng)用的可能性。但對(duì)于必須以高成品率來(lái)大量制造產(chǎn)品的FPD廠商來(lái)說(shuō),代替此前用慣了的材料轉(zhuǎn)而采用新材料存在風(fēng)險(xiǎn)。面向?qū)嵱没枰接懙恼n題還很多??朔@些課題需要材料廠商和裝置廠商之間的配合,面向?qū)嵱没⒒锇殛P(guān)系也不可或缺。

  在這種情況下,此次的國(guó)際會(huì)議上第一線的研究人員將齊聚一堂。2004年使透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體的性能提高了一位數(shù)、給該領(lǐng)域帶來(lái)光明的東京工業(yè)大學(xué)教授細(xì)野秀雄表示:“如此之多的企業(yè)和研究人員齊聚一堂還是首次。這是一次了解透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體現(xiàn)狀的絕好機(jī)會(huì)?!?

  目前已經(jīng)決定由全球最大的FPD廠商韓國(guó)三星電子的高級(jí)顧問(wèn)(前任副總裁)昔俊亨(Jun H.Souk)發(fā)表主題演講。除了演講外,第8代濺射靶材(Sputtering Target)以及通過(guò)透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體IGZO(In、Ga、Zn、O)TFT驅(qū)動(dòng)的液晶面板也將展出。

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