ASML回應(yīng)荷蘭半導(dǎo)體出口管制新規(guī):涉及最先進(jìn)的DUV光刻機(jī)
摘要:3月9日上午,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)發(fā)布聲明表示,ASML預(yù)計(jì)必須申請(qǐng)?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。同時(shí)公司還表示“新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng),先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”
閱讀:10922023年03月09日 16:10:24