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精進半導體、面板先進制程品質(zhì)之鼎器

編輯:zhanghexun 2015-04-21 08:45:40 瀏覽:611  來源:digitimes

  隨著空氣內(nèi)散布的微小氣狀分子污染物(AMC),對半導體及光電等精密制程的品質(zhì)造成舉足輕重的影響時,其品質(zhì)問題所延伸的成本提高及良率降低已然成為不可忽視的重要議題。

  奇鼎科技率先業(yè)界于多年前始研發(fā)制程一整合線上即時(In-line)連續(xù)監(jiān)看ppbv-pptv等級的微污物(nano-contamination)偵測系統(tǒng),由廣泛的物種觀察結(jié)果,集結(jié)而成的強大品質(zhì)資料庫,提供高階制程與時俱進的品質(zhì)控制方案。

  憑藉著對先進制程環(huán)境中空氣未知物的了解,奇鼎科技推出“AMC去除控制整合節(jié)能方案”作為微污染物去除的對策。應用包括制程的微環(huán)境控制(Mini-environment)及廠房環(huán)境(Fab)的外氣供氣處理,提供先進制程一個完整的AMC連續(xù)監(jiān)測及去除控制方案。

  奇鼎科技整合線上連續(xù)監(jiān)測及AMC去除控制的完整方案,提供先進制程一個完整的空氣微污染物控制之品質(zhì)精進方案,此圖以Array制程為范例,解釋此方案的架構(gòu)。

  以往微環(huán)境的空氣控制強調(diào)的僅有精密的溫濕度議題,而此領(lǐng)域多年來多由日系設備掌握資源。2010年起由奇鼎科技成功研發(fā)制造的TAU(Thermal AMC Control)系列,不但提供超前業(yè)界標準的精密溫濕度控制,可在運轉(zhuǎn)后短時間達到溫度精度控制±0.5度C結(jié)合濕度精密控制±1%RH,同時去除AMC效率可達97%的獨家過濾方式。

  此套系統(tǒng)應用于先進制程時,可提供恒溫恒濕的層流控制于制程環(huán)境中,空氣均勻分布使產(chǎn)品降溫狀態(tài)達到最佳化;結(jié)合微污染物去除的精準微環(huán)境控制效果,去除環(huán)境中對產(chǎn)品品質(zhì)有疑慮的微污染物。

  此項獨家特殊的AMC去除方法,另可應用于外氣空調(diào)箱(MAU);除了在外氣處理的第一段達到AMC去除的效果,提供廠房一個低微污物的環(huán)境保證,更可同時為馬達耗電節(jié)能約90%至98%,在先進制程品質(zhì)控制精進的方案上,達到品質(zhì)和成本兼顧的完美搭配。

  微環(huán)境控制與監(jiān)測的整體解決方案(Total Solution)領(lǐng)域,經(jīng)由奇鼎科技數(shù)年來的耕耘,已獲得臺灣一級晶圓代工及面板廠的肯定,目前更持續(xù)朝海外市場開拓、精進,成為更多新進制程品質(zhì)進階計畫的助力。

  藉由多年海內(nèi)外實績已證實,在制程環(huán)境空氣中所含的微污染物,利用線上監(jiān)看搭配微環(huán)境控制的完整方案,提供高階制程可靠的連續(xù)性分析控制,將大幅降低人為因素造成品質(zhì)監(jiān)控的異常和成本支出,為此領(lǐng)域開拓一個品質(zhì)精進的新紀元。

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