Intel這批老馬走的有些遲緩,臺積電和三星電子卻在新工藝上大發(fā)神威。三星此前已經(jīng)集中披露了8/7/6/5/4nm的長遠規(guī)劃,臺積電也在7/5/3nm上持續(xù)投入。
臺積電計劃2018年就量產7nm工藝,2019年再投產改進版本,首次使用EUV極紫外光刻技術。——三星也會在7nm上首次應用EUV。
5nm將在2019年第一季度投入風險性試產,量產時間未定,估計也就在2019年年內。
臺積電表示,5nm會在臺灣南部科技園(STSP)的工廠里投產,但后續(xù)產能擴充仍要視環(huán)境評估而定。
3nm工藝上臺積電已經(jīng)投入了數(shù)百名工程師,但產地一直懸而未決。臺積電曾經(jīng)有意將新工廠轉移到美國,不過首選還是臺灣本土。
臺積電表示,其在臺灣北部、中部、南部都有工廠,可以大大降低成本、提高生產效率,但充裕的供電和供水也是至關重要的。
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