安森美半導(dǎo)體推出180 nm工藝上經(jīng)過認(rèn)證的新IP模塊
摘要:5月7日,安森美半導(dǎo)體宣布推出專有ONC18 180納米(nm)工藝技術(shù)上的經(jīng)過認(rèn)證的新的 知識(shí)產(chǎn)權(quán) (IP)。這些新的經(jīng)過認(rèn)證的電路模塊將幫助安森美半導(dǎo)體的 晶圓代工 廠(GDS2)接口客戶把需要硅片重制(re-spin)的風(fēng)險(xiǎn)降至最低,因而幫助降低新設(shè)計(jì)的開發(fā)成本及縮短上
閱讀:6672014年05月08日 14:52:33