国产精品视频播放更新_亚洲精品中文综合_凌晨三点3免费观看_无码A级免费毛片视频_综合久久网

　　早在1980年，科學(xué)家便已發(fā)現(xiàn)了膠體半導(dǎo)體納米晶體 — 即量子點(diǎn) (QD)，其直徑大小通常只有2 - 10納米 (nm)。目前，這種材料已投入商業(yè)化生產(chǎn)，廣泛應(yīng)用于包括太陽(yáng)能電池、光電探測(cè)器和LED在內(nèi)的各種薄膜設(shè)備中。QD對(duì)平板顯示器 (FPD) 行業(yè)將產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響，但一切真的會(huì)從此改變嗎？

　　量子力學(xué)效應(yīng)（也稱“限域”效應(yīng)）導(dǎo)致的色彩可調(diào)性是量子點(diǎn)的諸多優(yōu)勢(shì)之一。量子點(diǎn)因其材料組分的不同（例如可包含硒化鎘 (CdSe) 和硫化鋅 (ZnS) 等），還可具有光致發(fā)光或電致發(fā)光特性。

　　在FPD應(yīng)用中，QD有望提高效能并降低功耗，增加亮度和色彩飽和度，延長(zhǎng)顯示器使用壽命，并降低當(dāng)前FPD技術(shù)（包括有機(jī)發(fā)光二極管 (OLED) 技術(shù)）的成本。OLED技術(shù)盡管十年前便已問世，但一直未能在利潤(rùn)豐厚的顯示設(shè)備市場(chǎng)中大有作為，主要原因便是其產(chǎn)量低和技術(shù)困難，從而導(dǎo)致成本偏高。

　　人們普遍認(rèn)為，QD設(shè)備的問世將會(huì)創(chuàng)造一種新的范式，這將終結(jié)液晶顯示器 (LCD) 的市場(chǎng)壟斷地位，并由開發(fā)出的新型低成本的薄膜晶體管 (TFT) 產(chǎn)品取而代之。Touch Display Research是一家獨(dú)立的技術(shù)市場(chǎng)調(diào)研和咨詢公司，該公司預(yù)測(cè)量子點(diǎn)顯示器和照明元件的市場(chǎng)價(jià)值到2016年年底將超過20億美元，到2025年將達(dá)到106億美元。

　　QD最直接的應(yīng)用是LCD背光照明技術(shù)（LED電視）。QD已集成到一種濾膜中，這種濾膜可以插入到LED背光源和LCD面板之間。目前的LCD背光源使用白色LED燈，這種燈實(shí)際上是通過在藍(lán)色的LED燈上覆蓋一層熒光粉制成，因此效率較低。量子點(diǎn)濾膜允許在背光源中使用純藍(lán)色LED燈，因?yàn)樗赏ㄟ^吸收和再發(fā)射將一些入射藍(lán)光轉(zhuǎn)換為很純的綠光和紅光。因此，LCD面板可接收更豐富的白光，從而擴(kuò)大了顯示器可再現(xiàn)的色彩范圍（色域）。該QD技術(shù)的一個(gè)關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)是無(wú)需對(duì)現(xiàn)有的FPD制程作出重大改變，這有助于盡早將該技術(shù)投入實(shí)際應(yīng)用。

　　QD LED或量子點(diǎn)發(fā)光二極管 (QLED) 顯示器將成為繼OLED顯示器之后的下一代顯示技術(shù)。QLED的結(jié)構(gòu)與OLED設(shè)備非常相似，它們均采用TFT矩陣有源處理每個(gè)像素。然而，使用模式化的QD取代標(biāo)準(zhǔn)發(fā)光性聚合物作為發(fā)射層，則具有顯著的優(yōu)勢(shì)。這些優(yōu)勢(shì)包括純色和完全可再現(xiàn)的色彩空間標(biāo)準(zhǔn)（如Adobe RGB），并能夠帶來(lái)比最先進(jìn)的OLED還要高出30 – 40%的發(fā)光效率。QD還可能促成各種尺寸及形狀的透明和超薄顯示器的出現(xiàn)，這是現(xiàn)有技術(shù)無(wú)法做到的。

　　運(yùn)動(dòng)控制和位置編碼器

　　量子點(diǎn)薄膜及類似產(chǎn)品均通過化學(xué)工藝大批量制造，這與運(yùn)動(dòng)控制無(wú)關(guān)。然而，QLED制造工藝將圍繞兩項(xiàng)技術(shù)展開：電流體動(dòng)力噴墨打印 (e-jet) 技術(shù)和接觸印刷技術(shù)。

　　封裝QD LED時(shí)，需要將不同厚度的多層QD以堆疊形式進(jìn)行排列，同時(shí)還可能涉及其他復(fù)雜的幾何形狀，以便能夠得到連續(xù)、高效的整體發(fā)射光譜。E-jet打印是一種分辨率很高的噴墨打印形式，有望用于制造大面積電路、光伏模塊和其他小型光子器件。E-jet打印機(jī)的工作原理是通過電場(chǎng)將墨滴從打印頭噴嘴吸出，而不是通過背壓將墨滴擠出，因此可得到納米級(jí)尺寸的墨滴。目前的試驗(yàn)機(jī)器采用一個(gè)具有多達(dá)五個(gè)自由度的基板定位平臺(tái)、一個(gè)Z軸線性平臺(tái)和一個(gè)轉(zhuǎn)臺(tái)，用于控制打印噴嘴的位置，從而實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)精度的準(zhǔn)確噴墨。運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)也可使用光學(xué)或磁性編碼器進(jìn)行粗調(diào)定位，并使用視覺傳感器以納米級(jí)精度 (

　　不過，QLED顯示器選擇的方法可能是接觸印刷，因?yàn)檫@種技術(shù)具有速度較高和成本較低的固有特性。這種貼裝技術(shù)采用彈性壓印模進(jìn)行轉(zhuǎn)印，可制造分辨率高達(dá)每英寸2460個(gè)紅-綠-藍(lán)像素點(diǎn) (PPI) 的顯示器。目前有三種基本的轉(zhuǎn)印“模式”，其中一種被稱為“確定性組裝 (Deterministic Assembly)”的技術(shù) — 直接將QD結(jié)構(gòu)從供體基板轉(zhuǎn)印至受體基板 — 最適合實(shí)際應(yīng)用。預(yù)計(jì)當(dāng)前的小規(guī)模QD接觸印刷工藝，將通過重復(fù)校準(zhǔn)轉(zhuǎn)印技術(shù)逐步擴(kuò)大印刷面積，而這是大批量生產(chǎn)的一個(gè)關(guān)鍵。QD檢索和印刷過程取決于對(duì)印模施加的正交力和印模速度。印模與基板的接觸面的調(diào)準(zhǔn)和定位精度必須達(dá)到微米級(jí)，并且可重復(fù)覆蓋精度必須

　　集成的光學(xué)元件和精密負(fù)載傳感器可提供壓力反饋和位置感應(yīng)數(shù)據(jù)，以確定印模和基板之間的適度接觸，從而達(dá)到理想的效果。隨著QD納米結(jié)構(gòu)印刷技術(shù)的發(fā)展和普及，這些系統(tǒng)的線性軸和回轉(zhuǎn)軸上將需要更多高性能的光學(xué)編碼器。

　　領(lǐng)先的編碼器解決方案

　　用于當(dāng)前FPD制程的大型空氣軸承平臺(tái)，其典型運(yùn)動(dòng)誤差小于10微米或10角秒。顯然，需要對(duì)其性能做出改進(jìn)，方可滿足未來(lái)QD設(shè)備/納米制造技術(shù)對(duì)運(yùn)動(dòng)控制精度的需求。增量式光柵 — 例如雷尼紹緊湊型TONiC?系列光柵 — 是用于需要最高精度的伺服反饋的最佳解決方案。

　　QD應(yīng)用的精密直驅(qū)平臺(tái)使用集成編碼器來(lái)實(shí)現(xiàn)速度/位置控制、轉(zhuǎn)矩控制和換相。應(yīng)根據(jù)速度和位置控制要求以及電機(jī)類型，來(lái)選擇最適合某一運(yùn)動(dòng)控制應(yīng)用的編碼器。

　　為了確保非常精確的定位控制和平穩(wěn)的速度控制，平臺(tái)需要較高的伺服剛性（通過較高控制器增益和較大帶寬來(lái)實(shí)現(xiàn)），以最大限度地減少位置校正時(shí)間（一種被稱為臨界阻尼的狀態(tài)）。穩(wěn)定狀態(tài)下的速度誤差由編碼器輸出誤差引起，這種誤差會(huì)被控制增益放大并作為真實(shí)電流流向驅(qū)動(dòng)器，從而造成感應(yīng)發(fā)熱和伺服控制問題。最終，控制性能與編碼器精度之間具有了一定的關(guān)系，因此高增益需要高分辨率和高精度來(lái)消除速度（轉(zhuǎn)矩）誤差的連鎖效應(yīng)。

　　設(shè)計(jì)人員在尋找最佳的伺服控制性能解決方案時(shí)，要求編碼器具備如下特點(diǎn)：帶有精細(xì)細(xì)分、周期誤差低、信號(hào)噪音（抖動(dòng)）小、封裝尺寸小，以及具有可選的模擬/數(shù)字輸出功能。雷尼紹的TONiC光柵具備低至±0.51 nm RMS的低信號(hào)抖動(dòng)，周期誤差僅±30 nm，是同類產(chǎn)品中最低的。顯然，先進(jìn)的光柵對(duì)未來(lái)納米制造技術(shù)的發(fā)展起著十分重要的作用。