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東芝開發(fā)支持LTE-A智能手機(jī)的RFIC

編輯:admin 2014-11-03 10:07:13 瀏覽:1753  來源:中華液晶網(wǎng)

  致力于通過新一代“TaRF6”工藝改善智能手機(jī)的性能

  東芝公司(Toshiba Corporation) (TOKYO:6502)宣布,該公司已面向支持LTE-Advanced技術(shù)的智能手機(jī)開發(fā)出SP12T[1]射頻(RF)天線開關(guān)集成電路(IC),實(shí)現(xiàn)業(yè)內(nèi)最低水平的插入損耗[2,4]和射頻失真[3,4]。樣品出貨即日啟動(dòng)。

  隨著移動(dòng)通信技術(shù)的普及,射頻頻帶和數(shù)據(jù)傳輸速率的量也正顯著增加。對(duì)移動(dòng)設(shè)備射頻電路中所使用的天線開關(guān)IC的要求正逐漸朝著多端口,以及改善射頻性能的方向發(fā)展。此外,為了滿足新興市場(chǎng)高數(shù)據(jù)傳輸速率移動(dòng)通信設(shè)備急劇增長(zhǎng)的要求,以具有成本效益的方式來改善這些射頻性能實(shí)屬必要。

  為了響應(yīng)這些要求,東芝現(xiàn)已開發(fā)出新一代采用絕緣體上硅(SOI)技術(shù)[6]的TarfSOITM(東芝高級(jí)射頻SOI技術(shù))[5]工藝“TaRF6”。TarfSOITM實(shí)現(xiàn)了將模擬、數(shù)字和射頻電路集成于單一芯片的目標(biāo)。相比其它的傳統(tǒng)解決方案,例如砷化鎵(GaAs),該工藝提供了一種高性價(jià)比解決方案,支持高度復(fù)雜的切換功能和射頻性能。

  借助“TaRF6”新工藝,為射頻開關(guān)應(yīng)用定制的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)已被開發(fā)并應(yīng)用于新型SP12T射頻天線開關(guān)IC中,從而帶來0.42dB插入損耗(f=2.7GHz)以及-90dBm二次諧波失真[7]的性能。與之前的“TaRF5”工藝相比,插入損耗(f=2.7GHz)降低了0.26dB,二次諧波失真降低18dB。較低的插入損耗可降低智能手機(jī)的功耗,而較低的諧波失真則有利于開發(fā)需要低失真的載波聚合[8]智能手機(jī)。

  東芝將于今年年底擴(kuò)大采用具有低插入損耗和低失真的“TaRF6”工藝的產(chǎn)品陣容,以滿足全球正在部署的長(zhǎng)期演進(jìn)(LTE)技術(shù)所需的多端口和復(fù)雜功能的要求,而LTE-Advanced[9]技術(shù)有望緊隨其后。此外,東芝正考慮提供采用TarfSOITM技術(shù)的SOI晶圓代工服務(wù)。

  注釋

  [1]單刀12擲開關(guān)

  [2]當(dāng)電流在射頻電路中從一端流向另一端時(shí)所產(chǎn)生的電功率損耗,以分貝表示。

  [3] 當(dāng)電流在射頻電路中從一端流向另一端時(shí),輸出信號(hào)中出現(xiàn)的多余頻率分量。

  [4] 截至2014年9月10日的射頻天線開關(guān)市場(chǎng)。東芝調(diào)查。

  [5] TarfSOITM是東芝公司的商標(biāo)。

  [6]該技術(shù)在MOSFET的通道下形成一層絕緣膜,并降低雜散電容,以改善CMOS LSI的速度和功率節(jié)省量。

  [7]具有2倍頻率的失真分量。

  [8]一種同時(shí)使用多個(gè)頻率載波來增加傳輸數(shù)據(jù)速率的技術(shù)。為了避免與接收器頻段重疊的諧波分量的接收性能出現(xiàn)下降,該應(yīng)用需要更低的諧波性能。

  [9]一種由3GPP標(biāo)準(zhǔn)開發(fā)組織制定的新通信標(biāo)準(zhǔn)。由國(guó)際電信聯(lián)盟(ITU)定義的第4代移動(dòng)通信系統(tǒng)中的一種。

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