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　　德國(guó)研究機(jī)構(gòu)Fraunhofer FEP的研究人員利用電子束(e-beams)成功為OLED發(fā)光區(qū)域制圖，使其得以形成永久持續(xù)高解析度的灰階影像。

　　研究人員指出，在經(jīng)過(guò)封裝等步驟最終確定OLED面板后，即可執(zhí)行這種電子束處理，從而能以低至2um的畫(huà)素間距，在單獨(dú)修改主動(dòng)層的發(fā)光特性之前，充份利用未圖案化OLED的量產(chǎn)優(yōu)勢(shì)。

　　電子的能量決定其于分層堆疊中的穿透力度。研究人員表示，在選擇合適的制程參數(shù)后，就能以電子束穿透封包，使下方的有機(jī)層發(fā)光特性變化時(shí)不至于破壞或損害封包。根據(jù)不同的應(yīng)用需求，甚至還能直接修正各單獨(dú)分層。

　　“這種固定影像寫(xiě)入實(shí)現(xiàn)的解析度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超越透過(guò)OLED分層沈積所能達(dá)到的程度，從而實(shí)現(xiàn)持續(xù)的灰階OLED影像，而非二進(jìn)制的開(kāi)-關(guān)OLED狀態(tài)，”Fraunhofer FEP的研究人員Elisabeth Bodenstein表示。

　　相較于疊加調(diào)光的替代方案，這種新的制程通?？稍谕耆c(diǎn)亮的OLED頂部覆蓋貼紙或網(wǎng)版印刷遮罩，從而為OLED實(shí)現(xiàn)十分精細(xì)的固定水紋，同時(shí)降低OLED的功耗。“這是因?yàn)榘档漠?huà)素功耗低，而以電子束處理時(shí)的阻抗提高了，”Bodenstein解釋。

　　因此，電子束曝光的時(shí)間越長(zhǎng)，出現(xiàn)在特定位置的OLED就越暗淡。研究人員利用電子束在不到100秒的時(shí)間內(nèi)，成功地為德國(guó)德勒斯登森柏(Dresden Semperoper)歌劇院制作出12,700 dpi解析度、2um畫(huà)素間距的影像。

　　以電子束制作的Dresden Semperoper歌劇院灰階OLED圖 (制圖：A. Rudzinski, Raith GmbH、Fraunhofer FEP / 攝影：Jurgen Losel)

　　這種精致的解析度和永恒的紋路可望實(shí)現(xiàn)更多新應(yīng)用，例如用于確保品牌標(biāo)識(shí)、寫(xiě)入不可變更的安全訊息，或甚至打造無(wú)法偽造的物品等。

　　研究人員指出，該制程適用于任何OLED，而且無(wú)論采用哪一種基板、顏色或封裝特性均可。研究人員還打算將這種技術(shù)應(yīng)用在單色分層上，從而打造出全彩的圖案。德國(guó)Fraunhofer Gesellschaft應(yīng)用研究促進(jìn)協(xié)會(huì)為這項(xiàng)技術(shù)提供資金贊助。