在普通玻璃的一個表面鍍上一層氧化銦錫的導電膜,就形成了LCD常用的氧化銦錫玻璃,通常簡稱為ITO玻璃。
基本結(jié)構(gòu)
基板:
常用的基板厚度有1.1mm;0.7mm;0.5mm;0.5mm,0.4mm
根據(jù)材料的不同,通常分為鈉鈣玻璃和硼硅玻璃兩種。
鈉鈣型玻璃
優(yōu)點:成本低
缺點:含有鈉、鉀等離子,易產(chǎn)生滲透,影響產(chǎn)品性能
硼硅型玻璃
優(yōu)點:玻璃硬度高,透過率好
缺點:成本較高
鈉鈣型玻璃基本成分:
SiO2層:
SiO2層的作用:
主要是防止鈉鈣型基板中的金屬離子擴散滲透到ITO層中,影響ITO層的導電能力。
SiO2層的膜厚:
標準膜厚一般為20-30nm。
ITO(indium Tin Oxid)層:
為氧化銦錫的透明導電層,其中I表示In2O3,T表示SnO2,一般Sn(即Tin)的含量約為10%。隨著ITO層厚度的增加,ITO層的厚度逐漸減小。
分類
根據(jù)基板玻璃表面狀態(tài)的不同,通常分為以下三種類型:
TN:未拋光型,直接在玻璃的浮法面進行鍍膜。
HTN:簡單拋光型/TN精選玻璃,將玻璃的浮法面進行簡單的拋光后,在拋光面進行鍍膜。
STN:超拋光型,將玻璃的浮法面進行精細的拋光后,在拋光面進行鍍膜。
生產(chǎn)工藝
ITO玻璃的生產(chǎn)工藝流程主要分為以下三個步驟:
1、切割倒角:
2、拋光;
3、鍍膜
注:TN型玻璃不需要拋光,生產(chǎn)工藝流程更簡單。
切割磨邊的工藝流程:
磨邊類型及規(guī)格要求:
通常分為C型和R型兩種
倒角的形狀及公差:
拋光工藝流程:
用研磨料將玻璃表面磨平,使玻璃表面平整。對于STN型ITO玻璃是必須經(jīng)過的一道生產(chǎn)流程。
鍍膜工藝流程:
鍍膜方法:
鍍膜的方法有:噴霧法;涂覆法;浸漬法;化學氣相沉積法;真空蒸發(fā)法;測射法,但目前工業(yè)化最有效的方法是磁控測射法。
磁控測射法:
在高真空反應室中充入一定比例的02和Ar的混合氣體,在直流高壓下,Ar被電離,在電場作用下轟擊靶材,使銦和錫以原子和離子形式濺射出來,沉積在基板玻璃表面,同時被氧化,形成氧化銦錫膜。
評價參數(shù)
透過率
在波長為550nm的光波照射下,具有SI02阻擋層玻璃的透過率不小于80%,其主要取決于玻璃材料、ITO厚度和折射率。
透過率定義:
透過玻璃的光透量T2與入射光透量T1之比的百分率
Tt=T2/T1X100%
方塊電阻:
d為膜厚,I為電流,L1為膜厚在電流方向上的長度,L2為膜層在垂直電流方向的長度,ρ為導電膜的體電阻率。ρ和d可以認為是不變的定值,當L1=L2時,為正方形的膜層,無論方塊大小如何,其電阻率為定值ρ/d,這就是方塊電阻的定義,即R=ρ/d
平整度
平整度可用h/1表示,意思為在長度為L的范圍內(nèi),表面最高點與最低點的差值為h。
ITO玻璃基板平整度參數(shù)包括:
1、玻璃表面粗糙度;
2、基板表面波紋度;
3、基板翹曲度;
4、基板垂直度‘
5、ITO膜表面粗糙度;
6、ITO玻璃基板、膜厚均勻度。
基板翹曲度
用h/L表示(如圖),即翹曲的高度與翹起邊的長度之比。
其中要求如下:
1、厚度≥0.7mm的基片玻璃,翹曲度(h/L)≤0.1%
2、厚度≤0.55mm的基片玻璃,翹曲度(h/L)≤0.15%
3、不允許有S形翹曲
基板垂直度:用a/L表示(如圖)。用來描述玻璃基板四條邊互相垂直的程度。
化學穩(wěn)定性
ITO鍍膜層的耐化學性能應符合表2中技術(shù)要求。
a、耐堿性
鍍層在溫度為60±2℃,濃度為10%的氫氧化鈉(分析純)溶液中浸泡5分鐘,ITO膜的方電阻與浸泡前的方電阻相比不得超過110%。
b、耐酸性
在25±2℃,6%鹽酸(分析純)溶液中浸泡2分鐘,ITO膜的方電阻與浸泡前的方電阻相比不得超過110%。
c、耐溶劑性能
將鍍膜玻璃放入丙酮(分析純)、無水乙醇(分析純)中浸泡5分鐘后,ITO膜的方電阻與浸泡前的方電阻相比不得超過10%。
熱穩(wěn)定性
在空氣中經(jīng)過30分鐘300±5℃(觸摸屏用ITO玻璃是在200±5℃)高溫后,ITO膜的方阻的變化率小于300%
附著力
用3M交代粘在玻璃表面迅速撕開,ITO層無明顯開裂現(xiàn)象。
ITO膜面的判定
浮法方向:
在基板玻璃制造過程中,液態(tài)玻璃流動的方向。
主要判定方法
(1)將萬用表打至歐姆檔,用探針分別測試兩個點,如果顯示不“1”,則所測試面為ITO膜面。
(2)用方塊電阻測試儀測試面電阻,如果顯示電阻無窮大,則所測面為非ITO膜面。
(3)通過大角設別:以16X14英寸的玻璃為例。
常見問題
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