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　　第一，上下毛刷的旋轉(zhuǎn)方向相反，可以保證玻璃基板受力平衡，不至于錯(cuò)位或者滑動(dòng)。

　　第二，這樣的旋轉(zhuǎn)方向，可以降低清洗劑的使用量。

　　第三，在設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)的時(shí)候，可以讓上下毛刷對(duì)刷，進(jìn)行自我清潔。

　　CJ & BJ：

　　CJ=Cavitations Jet，BJ=Bubble Jet。

　　二者都是利用DIW或UPW和CDA混合，在較高的壓力作用下噴射到玻璃基板表面，形成大量細(xì)小氣泡，利用氣泡破裂候產(chǎn)生的爆破力，將附著在玻璃基板表面的Particle去除掉。

　　與CJ和BJ原理類似的還有Hyper Mix以及Hyper Jet，其去除Particle的原理大同小異，都是利用高壓下產(chǎn)生的細(xì)小氣泡破裂沖擊Particle，從而將其去除。

　　有時(shí)，Hyper Jet中會(huì)加入CO2，以增加UPW的導(dǎo)電性，避免高壓沖刷下在玻璃基板表面形成靜電。

　　MS：

　　Mega Sonic。由超聲波震子震動(dòng)，使通入的DIW產(chǎn)生同頻率震動(dòng)，并在排列。

　　高壓剝離模組 1

　　該模塊主要?jiǎng)幼魇怯糜诮邮芮皢卧咚賯鬏斶^來的基板，使用噴射的高壓剝離液對(duì)基板進(jìn)行剝離處理，從完成蝕刻的基板表面除去光阻的模組。

　　其各組成單元如下：

　　剝離進(jìn)程單元

　　對(duì)經(jīng)過預(yù)濕處理的基板，將剝離液噴射在它的表面，從完成蝕刻的基板表面除去光阻。在處理過程中使用壓力傳感器，壓力計(jì)以及過濾器對(duì)剝離液的純度，壓力進(jìn)行控制。

　　溫度控制單元

　　對(duì)剝離液的溫度進(jìn)行控制，溫度范圍為60~80℃，溫差控制在3℃。

　　傳輸單元

　　接受前道工序傳輸過來的基板，在剝離過程中對(duì)基板進(jìn)行傳輸處理，在剝離完成后，將其傳輸?shù)较乱粏卧?。使用傳輸輥軸，中間輥軸和頂部輥軸進(jìn)行傳輸，使用側(cè)向?qū)蜉佪S進(jìn)行排列控制。

　　輔助單元

　　對(duì)剝離工序提供恒溫的剝離液，空氣純水。

　　高壓剝離模組 2

　　該模塊主要?jiǎng)幼魇怯糜诮邮芮皢卧咚賯鬏斶^來的基板，使用噴射的高壓剝離液對(duì)基板進(jìn)行剝離處理，從完成蝕刻的基板表面除去光阻的模組。搬運(yùn)輥軸上部設(shè)有高壓噴射嘴。另外，還設(shè)有清洗上屏罩的內(nèi)側(cè)的純水噴射嘴。

　　其組成單元與高壓剝離模組1單元相同。

　　噴射剝離模組(spray strip module)

　　在接受到來自高壓噴射剝離模組2的基板后，該模組完成的主要?jiǎng)幼魇菑脑O(shè)置在搬運(yùn)輥軸上下的噴射嘴向基板正、反面噴射剝離液。剝離液從設(shè)在模組下部的罐通過循環(huán)泵送入噴射嘴，使用過的處理液再次回收到罐中。其組成部分如下：

　　進(jìn)程單元

　　主要?jiǎng)幼魇菑脑O(shè)置在搬運(yùn)輥軸上下的噴射嘴向基板表、背面噴射剝離液。剝離液從設(shè)在模組下部的罐通過循環(huán)泵送入噴射嘴，使用過的處理液再次回收到罐中。

　　溫度控制單元

　　主要?jiǎng)幼魇菍?duì)剝離液的溫度進(jìn)行控制，溫度范圍為60~80℃

　　傳輸單元

　　主要?jiǎng)幼魇墙邮芮暗拦ば騻鬏斶^來的基板，在剝離過程中對(duì)基板進(jìn)行傳輸處理，在剝離完成后，將其傳輸?shù)较乱粏卧?。使用傳輸輥軸，中間輥軸和頂部輥軸進(jìn)行傳輸，使用側(cè)向?qū)蜉佪S進(jìn)行排列控制。

　　輔助單元

　　該單元的主要?jiǎng)幼魇菍?duì)剝離工序提供恒溫的剝離液，空氣純水。

　　型水洗模組(U-turn conveyor module)

　　本單元是一個(gè)水洗功能的U型搬運(yùn)軌道。在接收側(cè)、輸送側(cè)以及水平搬運(yùn)部的上下面（水平搬運(yùn)部只有上面）安裝有噴嘴，一邊搬運(yùn)基板一邊噴出純水。下部裝有罐，通過循環(huán)泵的壓力向噴嘴輸送液體。通過一系列水洗過程去除殘留的剝離液。同時(shí)使用輥軸的抬升與下降處理，完成基板的U型轉(zhuǎn)彎動(dòng)作。

　　水洗模組的組成部分如下：

　　傳輸單元

　　從上一模組接收搬運(yùn)來的基板，基板送入過程中用入口液體刀進(jìn)行水洗處理。傳輸如果采用傾斜姿勢(shì)，則可以提升清洗效果，降低水使用量。

　　提升轉(zhuǎn)換輥軸并抬升基板（這時(shí)送出側(cè)的轉(zhuǎn)換輥軸上升）。

　　旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)換輥軸和水平搬運(yùn)部的搬運(yùn)輥軸，將基板搬運(yùn)到送出側(cè)。搬運(yùn)時(shí)，進(jìn)行噴洗處理。

　　降下送出側(cè)的轉(zhuǎn)換輥軸，將基板放到傾斜方式搬運(yùn)輥軸上。

　　旋轉(zhuǎn)送出側(cè)的搬運(yùn)輥軸，將基板搬運(yùn)到下一模組。搬運(yùn)過程中，進(jìn)行噴洗

　　進(jìn)程單元

　　在接收側(cè)、輸送側(cè)以及水平搬運(yùn)部的上下面（水平搬運(yùn)部只有上面）安裝有噴嘴，一邊搬運(yùn)基板一邊噴出純水。下部裝有罐，通過循環(huán)泵的壓力向噴嘴輸送液體。通過一系列水洗過程去除殘留的剝離液。 3) 輔助單元

　　該單元的主要?jiǎng)幼魇菍?duì)U-Turn清洗工序提供恒溫空氣，純水。

　　直水洗模組(High Pressure/AAJET Rinse Module)

　　該模組主要?jiǎng)幼魇菍?duì)完成剝離作用的基板進(jìn)行水洗，去處剝離液的殘留。

　　其主要單元結(jié)構(gòu)如下：

　　進(jìn)程單元

　　在相對(duì)于電路板行進(jìn)方向，上游側(cè)由循環(huán)水洗部、下游側(cè)由直水洗部組成。模組的下部安裝了罐，罐的水洗水通過循環(huán)泵的壓力送到循環(huán)水洗部的噴嘴。使用后的液體再回到罐。直水洗部將工廠直接供應(yīng)的純水通過上下的噴嘴噴出，對(duì)基板進(jìn)行清洗。

　　傳輸單元

　　主要?jiǎng)幼魇墙邮芮暗拦ば騻鬏斶^來的基板，在清洗過程中對(duì)基板進(jìn)行傳輸處理，在清洗完成后，將其傳輸?shù)较乱粏卧?。使用傳輸輥軸，中間輥軸和頂部輥軸進(jìn)行傳輸，使用側(cè)向?qū)蜉佪S進(jìn)行排列控制。

　　輔助單元

　　為進(jìn)程單元提供循環(huán)純水以及對(duì)水洗用的壓力進(jìn)行控制和調(diào)節(jié)。

　　干燥模組(Air knife module)

　　該模組的主要工作是干燥水洗后的電路板。從氣刀向電路板的正反面吹出干燥空氣除去水分進(jìn)行干燥。上下各安裝了一臺(tái)吹出干燥空氣的裂縫式氣刀。

　　中性搬運(yùn)軌道模組(Neutral conveyor module)

　　該模組的主要?jiǎng)幼魇窃趩卧c單元之間完成的搬運(yùn)，是將從前一模組搬運(yùn)過來的基板直接搬運(yùn)到下一模組的搬運(yùn)軌道。#p#分頁(yè)標(biāo)題#e#

　　輸出模組(Exit conveyor module)

　　輸出模組位于各單元后部并向下一單元運(yùn)送基板的模組。出口搬運(yùn)軌道模組以傾斜方式搬運(yùn)而來的基板轉(zhuǎn)換為水平方式后待機(jī)。由下游的MHU的機(jī)械臂取出在該位置的基板。

　　供液模組(Supply tank module)

　　該模組主要是完成對(duì)脫膜用的藥液進(jìn)行加熱處理，并將藥液傳輸?shù)礁鲃冸x單元。

　　蝕(濕)刻)設(shè)備構(gòu)成和性能指標(biāo)

　　蝕(濕)刻)設(shè)備的組成

　　IN CV UNIT

　　EUV UNIT

　　NEUTRAL UNIT

　　ETCH UNIT1,2,3 UNIT

　　TANK UNIT

　　RINSE UNIT(SWR1,2,3,4 &F/R)

　　A/K UNIT

　　DRY UNIT1,2

　　OUT CV UNIT

　　蝕(濕)刻)設(shè)備的性能指標(biāo)

　　IN CV UNIT:

　　主要作用是從Robot上接收基板。

　　當(dāng)基板從Robot叉子上放置到IN CV內(nèi)搬送線上,Sensor檢測(cè)到后，機(jī)械手退出。通過Alignment機(jī)構(gòu)將基板調(diào)整到Passline的位置，再通過搬送線送入下一單元。

　　需要注意Alignment機(jī)構(gòu)的動(dòng)作平穩(wěn),速度均勻,無沖擊現(xiàn)象.

　　送出完畢后再向Robot發(fā)出送入要求，進(jìn)行下一片基板的接收工作。

　　EUV UNIT：

　　主要通過UV Lamp照射，去除基板表面的有機(jī)物。

　　NEUTRAL UNIT：

　　該單元起到過渡作用。

　　入口和出口都有Shutter(遮光器)避免外部光線射入EUV 和ETCH單元。 Shutter放下時(shí)，才可進(jìn)行基板搬送。

　　ETCH UNIT 1,2,3 ：

　　ETCH UNIT是對(duì)基板進(jìn)行刻蝕的單元。金屬膜被藥液腐蝕掉，留下被PR覆蓋的部分，就是我們所需要的加工的Gate。

　　存放于下部TANK內(nèi)的Chemical通過Pump加壓，沿著管路,經(jīng)過Filter過濾后,打入Bath中；Bath中又由傳送帶,Liquid Knife, Oscillation, Manifold, Dip等機(jī)構(gòu)組成.Chemical經(jīng)過多種方式接觸到基板表面.通過化學(xué)反應(yīng)對(duì)金屬膜進(jìn)行Etching。

　　下部TANK UNIT：

　　下部tank主要用于存放Etching用的Chemical,并起溫度調(diào)和槽的作用。共有2個(gè)tank。自動(dòng)運(yùn)行時(shí)通過設(shè)備參數(shù)來選擇其中的一個(gè)tank工作，另一個(gè)tank用于液交換的備用。

　　RINSE UNIT(SWR1,2,3,4&F/R)：

　　RINSE UNIT主要是清洗基板表面殘余的化合物雜質(zhì)。主要由SWR1,2,3,4和F/R兩部分組成：

　　SWR UNIT1,2,3,4是將Etching后的基板表面，經(jīng)過4道循環(huán)水洗的工序進(jìn)行清洗，去除基板表面殘余的Chemical和化學(xué)合成物.

　　F/R UNIT是通過Facility直接供應(yīng)的純水對(duì)基板表面做最后一次清洗.

　　A/K UNIT：

　　A/K風(fēng)刀單元主要作用是吹去從水洗單元送過來的基板表面的積水.

　　DRY UNIT1,2 ：

　　DRY UNIT是在一般搬送的基礎(chǔ)上曾加了FFU吹風(fēng)單元。能提高基板表面的的干燥效果。入口的Ionizer裝置(離子風(fēng))能去除基板表面的靜電。

　　EXIT UNIT:

　　EXIT UNIT基本與前面的DRY單元相同,也有FFU吹風(fēng)裝置干燥。

　　基板進(jìn)入EXIT UNIT的指定位置后搬送線停止并發(fā)出信號(hào)，等待LD/ULD機(jī)械手來取出基板。

　　附：

　　WET工序(清洗.脫膜,蝕(濕)刻)的主要工藝參數(shù)和工藝質(zhì)量評(píng)價(jià)

　　對(duì)于清洗設(shè)備來說，質(zhì)量評(píng)估的內(nèi)容有兩個(gè)方面：

　　1. Particle數(shù)量。

　　檢驗(yàn)清洗設(shè)備洗凈能力的主要標(biāo)準(zhǔn)就是Particle的數(shù)量。如果Particle的數(shù)量過多會(huì)造成成膜異常，甚至?xí)斐删€路的開路和短路。對(duì)于4.5代生產(chǎn)線的玻璃基板來說，Particle通常會(huì)控制在總數(shù)100顆以內(nèi)。

　　2. Contact Angel

　　Contact Angel即接觸角。在液體與固體平面接觸的時(shí)候，液體的邊緣會(huì)與固體平面形成一定的角度，此角度即接觸角。

　　接觸角的大小可以用來評(píng)估固體表面與此種液體的親和能力。對(duì)于玻璃基板來講，接觸角是用來衡量玻璃基板與水的親和性的，也就是驗(yàn)證玻璃基板的親水性。

　　親水性高說明玻璃基板表面的有機(jī)物較少，親水性低說明玻璃基板表面的有機(jī)物較多。

　　因此可以通過Contact Angel來衡量玻璃基板表面有機(jī)物的含量。通常清洗設(shè)備都具有EUV的紫外線照射單元，通過紫外線照射去除有機(jī)物。Contact Angel的數(shù)值一般控制在5~10°之間。