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關于AMOLED制造中的蒸鍍工藝,三星是這么上課的

編輯:liuchang 2018-01-30 09:23:04 瀏覽:4327  來源:未知

  OLED擁有卓越的顏色和畫質(zhì)的原因是其自發(fā)光性。顯示屏幕的自發(fā)射意味著光和顏色都由像素自身發(fā)射。這個概念與使用像LCD這種接收來自外部光源(背光源)的光并通過濾光片控制光顏色的類型形成對比。

  在顯示器中,像素形成的方式稱為色彩圖案化。 基于紅,綠和藍三原色(通常三個子像素組成一個像素)的子像素必須被沒有誤差的圖案化,這樣顯示器的屏幕才可以完全準確的顯示內(nèi)容。那么如何制造一個自發(fā)光OLED像素?

  行業(yè)中有各種各樣的方法,大規(guī)模生產(chǎn)最常用的方法是蒸鍍。目前實現(xiàn)高精度,大容量OLED微單元彩色圖案化的唯一方法是通過蒸鍍。

  蒸鍍是OLED的核心工藝之一,也是OLED制造工藝五大步驟的第二個階段。

  [LTPS]→[蒸鍍]→[封裝]→[單元]→[模塊]

  如果用LTPS(低溫多晶硅)控制發(fā)光的各個像素,蒸鍍過程則是制造能夠產(chǎn)生光和顏色的自發(fā)光像素本身。

  讓我們來回顧一下。

關于AMOLED制造中的蒸鍍工藝,三星是這么上課的

  OLED是由在玻璃基板上發(fā)射紅色(R),綠色(G)和藍色(B)的有機發(fā)光層,以及用于保護有機發(fā)光層的結(jié)構(gòu)組成。 仔細觀察有機發(fā)光層,可以看到HIL和ETL等輔助層結(jié)合在一起。這有助于提高發(fā)光效率,使發(fā)光效率比僅RGB發(fā)出的光更高。

  形成有機層的最常用的方法是“蒸鍍”。 蒸鍍類似于蒸發(fā)。

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  在鍋里燒開水時,蒸氣就行成鍋蓋上的露水。不同之處在于蒸鍍使用有機材料代替水,并且在真空狀態(tài)而不是在正常的大氣壓力下進行加熱。

  蒸鍍必須先在真空中進行,也就是在稱為真空室的設備中進行。制造好的大型LTPS背板,在真空室內(nèi)進行彩色圖案化。(在此基板上完成彩色圖案制造之后,將根據(jù)智能手機的尺寸對單元進行切割和使用。)

  一旦LTPS制造好并放置在蒸鍍真空室中,然后就是在LTPS基板下面放置精密的金屬掩模板(FMM)。掩模板是在薄鋼板上有刻有小孔的器件,所以當有機材料蒸鍍時,它只能沉積在特定的位置。如果不使用掩模板,則會將綠色和藍色沉積在紅色(R)像素上,這樣將無法獲得純色。 因此,在蒸鍍過程中不同的時間使用RGB相應位置和形狀的不同掩模板。

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  當掩模板準備就緒時,將蒸發(fā)源(如有機材料等蒸發(fā)材料)放在其下,并將其加熱到適當?shù)臏囟取.敿訜衢_始時,分子單元中的有機小分子穿過掩模并積淀到預期位置。

  上面我們講了蒸鍍的概念,這是OLED的核心工藝之一。 接下來讓我們仔細看看通過蒸鍍的顏色圖案化過程。

關于AMOLED制造中的蒸鍍工藝,三星是這么上課的

  下面,我們將繼續(xù)談論OLED的關鍵制造工藝之一“蒸鍍”。 在“蒸鍍第一部分”上面的最后部分,我們討論了蒸鍍的概念和原理,下面我們將討論蒸鍍的具體過程。

  OLED蒸鍍工藝首先在LTPS(低溫多晶硅)之上形成有機層。請記住LTPS是用來控制顯示器上的像素的開關。在OLED中,發(fā)光像素由有機材料構(gòu)成,這些有機材料通過電信號發(fā)光和相應顏色。控制電路信號由LTPS負責,因此LTPS應該與OLED層形成連接,形成方法在“蒸鍍”過程完成。

  如上圖所示,EML(發(fā)射層)存在于LTPS陽極上。在圖中,我們只畫出紅色的子像素作為例子進行說明。仔細觀察這個結(jié)構(gòu),可以看出輔助層分別存在于EML的上面和下面,以提高EML的發(fā)射效率。

  電子從陰極被注入到EIL(電子注入層)中,并通過ETL(電子傳輸層)到達EML。

  類似地,空穴從陽極被注入到相對側(cè)的HIL(空穴注入層)中,并通過HTL(空穴傳輸層)到達EML。當EML中的電子和空穴相遇時,它們復合然后發(fā)出光。

  同樣的結(jié)構(gòu),不僅是紅色,如果綠色和藍色的有機發(fā)光層都能創(chuàng)造出來,它們被組合以形成單個像素。

  那么,有機發(fā)光層是由什么樣的順序構(gòu)成的,讓我們通過下面動畫來觀察過程。

關于AMOLED制造中的蒸鍍工藝,三星是這么上課的

※實際上的工程構(gòu)造和順序會有所不同

  基本的OLED蒸鍍工藝,首先從去除LTPS(包含陽極)基板上的污垢和雜質(zhì)的工作開始。在清洗和干燥襯底之后,使用plasma去除陽極殘留物質(zhì),并且改善從陽極到HIL的空穴注入特性。

  然后,全面蒸鍍HIL(空穴注入層),然后在蒸鍍HTL(空穴傳輸層)以形成輔助層。

  接下來就是實際發(fā)光的EML層,需要使用掩模選擇性地沉積在期望的位置。

  隨后,蒸鍍ETL(沉積電子傳輸層)和EIL(電子注入層)以形成電子傳輸?shù)妮o助層,最后蒸鍍陰極,從而完成有機發(fā)射層的整個沉積過程。

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