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偏貼的主要工藝參數(shù)、偏貼設(shè)備、材料及返修工藝
技術(shù)中心

偏貼的主要工藝參數(shù)、偏貼設(shè)備、材料及返修工藝

摘要:偏光片貼附LCD/OLED上下面,起偏光作用,偏光片使自然光變成線偏振光。 貼片工序原理 貼片工序主要是將偏光片表面的離心膜剝離之后,承載單元移動(dòng)過程中, 貼附Roller將偏光片貼在panel上下表面。(貼附動(dòng)作如圖) 貼片動(dòng)作圖示 偏貼設(shè)備構(gòu)成和性能指標(biāo) 偏光

閱讀:61432018年01月05日 10:24:30
Cell工藝段中清洗與切割的原理方法及設(shè)備剖析
技術(shù)中心

Cell工藝段中清洗與切割的原理方法及設(shè)備剖析

摘要:PI前清洗 PI前清洗的作用就是對(duì)需要印刷的基板進(jìn)行事先的清洗,以保證在印刷時(shí)的良好效果和高的良品率。清洗前的基板上的污染物,主要來自于ITO膜層、TFT陣列等制備工藝過程,以及玻璃基板的搬運(yùn)、包裝、運(yùn)輸、存儲(chǔ)過程。 主要的污染物有塵埃粒子、纖維、礦

閱讀:58902017年12月29日 09:42:00
OLED主要設(shè)備/材料詳細(xì)規(guī)格及廠房規(guī)劃合輯
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OLED主要設(shè)備/材料詳細(xì)規(guī)格及廠房規(guī)劃合輯

摘要:主要設(shè)備 部分設(shè)備規(guī)格(僅供參考) 設(shè)備名稱:自動(dòng)曝光顯影生產(chǎn)線 加工產(chǎn)品: 玻璃基板 加工產(chǎn)品尺寸: 370470 mm,370400 mm,厚度:0.5~1.1mm 操作時(shí)間: 60 秒/每片 操作人員: 每班 3 人(3 班) 工程師: 每班 1 人(3 班) 設(shè)備尺寸見下圖: 設(shè)備名稱

閱讀:44132017年12月27日 09:22:25
AMOLED的色彩設(shè)計(jì)與畫質(zhì)提升解決方法剖析
技術(shù)中心

AMOLED的色彩設(shè)計(jì)與畫質(zhì)提升解決方法剖析

摘要:AMOLED發(fā)光原理 發(fā)光器件設(shè)計(jì)原則 AMOLED成像要素 顯示面板的功能就是圖像顯示,所以談到面板的技術(shù)參數(shù),成像是繞不過去的一關(guān)。 視覺世界里最重要的屬性是亮度和色彩。顯示器可以發(fā)出紅色、綠色、藍(lán)色三種波長(zhǎng)的光,并控制這三種光的比例,屏幕上的所有顏

閱讀:59852017年12月26日 09:02:02
武漢大學(xué)新研究:橙紅光OLED效率達(dá)到29.2%
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武漢大學(xué)新研究:橙紅光OLED效率達(dá)到29.2%

摘要:最近,熱活化延遲熒光(TADF)材料以其獨(dú)特性能獲得廣泛關(guān)注,被認(rèn)為是繼傳統(tǒng)熒光材料和重金屬配合物磷光材料之后最具有發(fā)展?jié)摿Φ牡谌l(fā)光材料。在過去幾年中,TADF材料的電致發(fā)光性能獲得了長(zhǎng)足進(jìn)步。在天藍(lán)光區(qū)域,其外量子效率(EQE)已接近37%;在綠

閱讀:38992017年12月22日 14:12:51
【科普】被譽(yù)為未來主流:超聲波指紋識(shí)別技術(shù)可以這樣來理解!
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【科普】被譽(yù)為未來主流:超聲波指紋識(shí)別技術(shù)可以這樣來理解!

摘要:隨著指紋識(shí)別的廣泛應(yīng)用,尤其是在移動(dòng)支付領(lǐng)域的應(yīng)用,指紋識(shí)別的安全性問題開始受到關(guān)注。 目前智能手機(jī)使用的電容式指紋傳感器捕捉的是手指表面的二維圖像,損失了指紋紋理深度的特征。 用黏土制造假指紋用于解鎖: 超聲波指紋技術(shù)原理 超聲波指紋技術(shù)的

閱讀:52242017年12月18日 10:07:10
從OLED器件工藝、材料到屏幕設(shè)計(jì)及試驗(yàn)線設(shè)備采購
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從OLED器件工藝、材料到屏幕設(shè)計(jì)及試驗(yàn)線設(shè)備采購

摘要:器件基本結(jié)構(gòu) OLED器件基本結(jié)構(gòu)為多層型,多層型可以是具有異質(zhì)界面的迭層型結(jié)構(gòu)和模糊界面層型結(jié)構(gòu)。有機(jī)電致發(fā)光器件實(shí)際上又可以分為多種器件結(jié)構(gòu),這些結(jié)構(gòu)是為了適應(yīng)材料性能和器件性能要求而設(shè)計(jì)的。 某些結(jié)構(gòu)在提高發(fā)光效率和性能穩(wěn)定性方面是相當(dāng)重

閱讀:55162017年12月15日 10:52:38
【屏下指紋識(shí)別】技術(shù)分類、封裝及工藝流程匯總
技術(shù)中心

【屏下指紋識(shí)別】技術(shù)分類、封裝及工藝流程匯總

摘要:前段時(shí)間,半導(dǎo)體巨頭博通提出收購要約,擬斥資1000 億元收購高通,該交易一旦成功將是半導(dǎo)體行業(yè)最大的一筆并購案。 而生物識(shí)別公司FPC 也在瑞典發(fā)布了屏內(nèi)指紋識(shí)別方案,該技術(shù)可以在智能手機(jī)顯示面板的任意位臵補(bǔ)貨與識(shí)別應(yīng)用者的指紋。這種屏內(nèi)指紋識(shí)別

閱讀:53062017年11月20日 09:56:39
占據(jù)面板成本1/4的關(guān)鍵組件!CF制程、檢測(cè)及工藝流程圖匯總
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占據(jù)面板成本1/4的關(guān)鍵組件!CF制程、檢測(cè)及工藝流程圖匯總

摘要:Color Filter(彩色濾光片)是組成面板中最重要的關(guān)鍵零組件,占面板制造總成本約四分之一,制造生產(chǎn)方式是在素玻璃基板上用紅、綠、藍(lán)色的光阻液原料,用黃光蝕刻方式或是其它技術(shù)(如顏料分散或轉(zhuǎn)印方法)形成與紅、綠、藍(lán)三原色的長(zhǎng)條形數(shù)組的基板。 當(dāng)背面的

閱讀:101472017年11月14日 08:51:43
「面板制程刻蝕篇」最全Dry Etch 分類、工藝基本原理及良率剖析
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「面板制程刻蝕篇」最全Dry Etch 分類、工藝基本原理及良率剖析

摘要:Dry Etch工序的目的 廣義而言,所謂的刻蝕技術(shù),是將顯影后所產(chǎn)生的光阻圖案真實(shí)地轉(zhuǎn)印到光阻下的材質(zhì)上,形成由光刻技術(shù)定義的圖形。 它包含了將材質(zhì)整面均勻移除及圖案選擇性部分去除,可分為濕式刻蝕(wet etching)和干式刻蝕(dry etching)兩種技術(shù)。 濕式

閱讀:344232017年11月12日 14:24:00

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