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技術(shù)中心

很致命！如果這項工藝做不好，面板就要廢掉

摘要：在Array段的制程通常會分為鍍膜，曝光和蝕刻三道大的工序。而蝕刻工序根據(jù)工藝和設(shè)備的不同又可以分為干蝕刻和濕蝕刻，即Dry工序和WET工序。 WET工序作為蝕刻工序的一種實現(xiàn)方式，WET工序詳細來講可以包括清洗，濕蝕刻和脫膜。 1、清洗包括初清洗和成

閱讀：65122017年11月01日 15:14:15

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光刻膠技術(shù)參數(shù)、分類及工藝流程剖析

摘要：光刻膠由光引發(fā)劑、樹脂、溶劑等基礎(chǔ)組分組成，又被稱為光致抗蝕劑，這是一種對光非常敏感的化合物。此外，光刻膠中還會添加光增感劑、光致產(chǎn)酸劑等成分來達到提高光引發(fā)效率、優(yōu)化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后，它在顯影液中的溶解度會發(fā)生變

閱讀：112822017年10月31日 08:28:50

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石墨烯阻隔層有望應用在柔性O(shè)LED封裝

摘要：OLED顯示器對氧和水非常敏感，更好的阻隔效果是下一代柔性技術(shù)的主要挑戰(zhàn)之一。第一代OLED顯示器使用玻璃作為阻擋層，但因為較差的柔韌性不能用于柔性O(shè)LED。目前柔性屏使用的都是薄膜封裝，由SiOx和PI層交替構(gòu)成，水氧的阻隔效果尚可，但柔性顯示屏再向前發(fā)

閱讀：38262017年10月30日 09:34:23

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OLCD是什么鬼？它和OLED有啥關(guān)系？

摘要：在顯示行業(yè)，目前最火的當屬OLED與LCD顯示技術(shù)之爭，由于OLED在性能的諸多優(yōu)勢，其被認為是顯示屏的次世代技術(shù)。 OLED在性能上的優(yōu)勢表現(xiàn) 色域更高，顏色更鮮艷；視角更好，大視角無明顯色偏；響應時間更快，觀看動態(tài)畫面無拖尾現(xiàn)象; 自發(fā)光，暗態(tài)更暗，無

閱讀：59392017年10月25日 08:29:22

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看了這篇最全介紹TP（觸摸屏）的PPT，有人做成了一家上市企業(yè)

摘要：隨著柔性O(shè)LED顯示技術(shù)的突破，全面屏顯示觸控技術(shù)也成為了可量產(chǎn)的現(xiàn)實。全面屏技術(shù)這個新的市場需求也再次給顯示與觸摸行業(yè)出了個新的技術(shù)路線選擇難題。不過，三星在固定曲率柔性O(shè)LED顯示屏上，仍然選擇了傳統(tǒng)ITO材料時，行業(yè)對于ITO FILM觸摸屏的生產(chǎn)技術(shù)

閱讀：51322017年10月20日 09:40:08

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OLED用的是圓偏光！關(guān)于偏光片技術(shù)你需要這樣來補習

摘要：日前，香港科技大學郭海成教授以O(shè)LED用薄膜偏光片為主題，分享一種偏光片涂布式的技術(shù)路徑與方法。郭海成教授介紹，目前市場上絕大部分偏光片都是基于PVA拉伸來取得偏振方向，還是基于H-sheet這樣的老技術(shù)。柔性顯示把傳統(tǒng)的偏光片貼上去非常費時，而且也

閱讀：121732017年10月16日 10:05:22

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ITO玻璃生產(chǎn)工藝相關(guān)參數(shù)及分類匯總

摘要：在普通玻璃的一個表面鍍上一層氧化銦錫的導電膜，就形成了LCD常用的氧化銦錫玻璃，通常簡稱為ITO玻璃。基本結(jié)構(gòu) 基板：常用的基板厚度有1.1mm;0.7mm;0.5mm;0.5mm,0.4mm 根據(jù)材料的不同，通常分為鈉鈣玻璃和硼硅玻璃兩種。鈉鈣型玻璃優(yōu)點：成本低缺點：

閱讀：65602017年10月12日 09:07:15

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OLED顯示主流趨勢下的OCA全貼合材料工藝技術(shù)解析

摘要：什么是OCA？ OCA（Optical Clear Adhesive），是一層無基材光學透明的特種雙面膠，屬于壓敏膠的一類。無色透明、光透過率在90%以上、膠結(jié)強度良好，可在室溫或中溫下固話，且有固化收縮小等特點。什么是OCA全貼合技術(shù)？全貼合技術(shù)是目前高端智能手機與平

閱讀：62882017年10月10日 10:58:17

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OLED屏幕“殘影”之手機與TV技術(shù)及原理解析

摘要：所謂燒屏，我們一般稱為殘像或者殘影。這種現(xiàn)象存在于自發(fā)光類顯示器上，包括顯像管（CRT）、等離子（PDP），也包括你所說的OLED顯示器。這種現(xiàn)象是由于圖像長時間靜止，而且畫面中明暗對比強烈，在畫面切換后，原先明亮的部分仍然會有部分影子殘留在畫面里

閱讀：85172017年09月29日 09:06:40

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提升面板精度？這個很貴很貴的相移掩模你也要了解一下

摘要：什么是相移掩模？先進相移掩模(PSM)制造是極大規(guī)模集成電路生產(chǎn)中的關(guān)鍵工藝之一。當設(shè)計尺寸(CD)為0.18m時，就必須在掩模關(guān)鍵層采用OPC (光學鄰近校正)和PSM (相移技術(shù))。一般二元掩模由于圖形邊緣散射會降低整體的對比度，無法得到所需要的圖形。通過

閱讀：67792017年09月27日 08:52:02